Investition am Forschungs- und Entwicklungsstandort
Die ZEISS Sparte Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) hat an ihrem Standort im südhessischen Roßdorf 300 Quadratmeter zusätzliche Reinraumfläche in Betrieb genommen.
Seit 2005 ist Roßdorf ein Standort der ZEISS Sparte Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) – damals hatte ZEISS die NaWoTec GmbH, ein Spin-off der Deutschen Telekom, übernommen. 2015 waren hier rund 80 Mitarbeitende beschäftigt, heute umfasst der strategische Geschäftsbereich ZEISS Semiconductor Mask Solutions (SMS) in Roßdorf rund 280 Mitarbeitende. „Diese Entwicklung zeigt, was mit Start-up-DNA, dem Rückhalt eines globalen Technologiekonzerns und dem Tech-Ökosystem rund um Darmstadt möglich ist“, sagt Dr. Patrick Villwock, Entwicklungs- und Standortleiter in Roßdorf. Und die Zukunft, so scheint es, hat hier gerade erst begonnen: Mitte September wurden 300 Quadratmeter zusätzliche Reinraumfläche in Betrieb genommen – das entspricht einem Flächenzuwachs von 80 Prozent.
Raum für Wachstum und neue Tools
Die Maßnahme ist Teil eines größeren Investitionspakets mit einem Gesamtvolumen von mehr als 20 Millionen Euro. Mit den neuen Reinräumen schafft ZEISS SMT nicht nur optimale Bedingungen für Präzisionsarbeit im Nanometerbereich – sauber, vibrationsfrei und kontrolliert –, sondern auch dringend benötigten Raum: Die Erweiterung bietet Platz für vier zusätzliche Tools, hochspezialisierte Anlagen, die die Herstellung defektfreier High-End-Photomasken ermöglichen. „Die Inbetriebnahme ist ein Meilenstein für unseren Geschäftsbereich“, betont Dr. Clemens Neuenhahn, Leiter ZEISS SMS. „Wir erweitern gezielt unsere Forschungs- und Entwicklungskapazitäten, um der steigenden technologischen Komplexität in der Maskenreparatur gerecht zu werden.“ Damit stärkt das Unternehmen seine Position in einem hochspezialisierten Bereich der Halbleiterproduktion: der Entwicklung hochpräziser Maskenreparatursysteme.
Präzision für die Halbleiterindustrie
Photomasken dienen in der Mikrochipfertigung als optische Vorlage, mit der feinste Nanostrukturen auf Silizium-Wafer belichtet werden – vergleichbar mit einem extrem präzisen Dia. Schon kleinste Defekte auf diesen Masken können zu Ausschuss führen und damit Qualität und Wirtschaftlichkeit der Produktion beeinträchtigen. Die am Standort Roßdorf entwickelten MERiT®-Systeme von ZEISS SMT beheben solche Fehler berührungslos, mit Elektronenstrahltechnologie und Nanometer-Präzision – ohne die Masken zu beschädigen. Sie tragen dazu bei, die Ausbeute in der Produktion zu sichern und die Qualität moderner Mikrochips, die immer kleiner, leistungsfähiger und energieeffizienter werden, zu gewährleisten. Alle großen Halbleiterhersteller weltweit setzen die Systeme von ZEISS SMT ein, um Photomasken zuverlässig zu reparieren.
Starkes Zeichen für den Wirtschaftsstandort Hessen
Hessens Ministerpräsident Boris Rhein ließ es sich nicht nehmen, bei der Eröffnungsfeier am 17. September 2025 in Roßdorf persönlich teilzunehmen und bei dieser Gelegenheit den Standort zu besichtigen: „Die Halbleiterindustrie ist von zentraler Bedeutung für nahezu alle Zukunftstechnologien – vom autonomen Fahren bis zur künstlichen Intelligenz. Dass ein Unternehmen wie ZEISS gerade in Hessen investiert, ist ein starkes Zeichen für unseren Wirtschaftsstandort“, so der Ministerpräsident.
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