Dr. Michael von Borstel (Mitte) mit den Veranstaltern der Industriegespräche Mittelhessen. (Bild: Thomas X. Stoll)
Dr. Michael von Borstel (Mitte) mit den Veranstaltern der Industriegespräche Mittelhessen. (Bild: Thomas X. Stoll)

Wetzlar Network & DPG

EUV-Licht für die Fotolithographie

Die Industriegespräche Mittelhessen starteten mit einem Highlight ins Wintersemester: Am 3. November war Dr. Michael von Borstel, Geschäftsführer der TRUMPF Laser- und Systemtechnik GmbH zu Gast.

Insgesamt vier Vorträge sind im Rahmen der Industriegespräche Mittelhessen für das Wintersemester 2014/15 eingeplant. Der Auftakt machte Lust auf mehr: Rund 100 Studierende sowie Vertreter aus Politik und Wirtschaft füllten am 3. November 2014 den Hörsaal III der Physikalischen Institute an der Justus-Liebig-Universität Gießen.

Dr. Michael von Borstel, Geschäftsführer der TRUMPF Laser- und Systemtechnik GmbH im schwäbischen Ditzingen sprach über die „Erzeugung von EUV-Licht für die Fotolithographie“ – ein hochaktuelles Thema, wie sich im Laufe seines Vortrags herausstellte. Er erläuterte, wie man EUV-Licht (extreme ultraviolette Strahlung) der Wellenlänge 13,5 nm durch einen mit CO2-Laserlicht aufgeheizten Zinn-Plasma erzeugt. Darüber hinaus berichtete Dr. von Borstel über die industrielle Umsetzung dieser Technologie zur EUV-Lichterzeugung in Halbleiter-Produktionsanlagen.

Dass dieses Thema nicht nur für TRUMPF, eines der weltweit führenden Hochtechnologieunternehmen, höchst spannend ist, sondern auch für die Forschung und Industrie, verdeutlichte Dr. Michael von Borstel an zahlreichen Anwendungsbeispielen. So wird etwa die nächste Generation von optischen Lithographie-Systemen zur Herstellung der Strukturen auf Halbleiterchips wird mit EUV-Lichtquellen ausgestattet.

Im Anschluss an den Vortrag stand der Referent bei einem kleinen Empfang im Foyer in informellen Gesprächen Rede und Antwort.

Das kommende Programm der Industriegespräche Mittelhessen im Wintersemester 2014/15 finden Sie unten im Download-Bereich.

 

Veranstaltung:

Dr. Michael von Borstel
Geschäftsführer TRUMPF Laser- und Systemtechnik GmbH
Erzeugung von EUV-Licht für die Fotolithographie

3.11.2014, 18.15 Uhr
Hörsaal III der Physikalischen Institute
Justus-Liebig-Universität Gießen
Heinrich-Buff-Ring 14
35392 Gießen

 

Downloads:
Programm 2014/15